設備詳細
設備名称 X線光電子分光装置 (ULTRA2)
分類 大項目 小項目
分析機器 表面分析
メーカー 島津／KRATOS
型番 ULTRA2
概要・外観 X線光電子分光装置は、固体材料表面にX線を照射して生じる光電子のエネルギーを測定することで、サンプルの構成元素とその電子状態を高精度に分析することのできる光電効果を応用した分析装置である。
性能・構成内訳 モノクロメータＸ線銃：Al（600W）
デュアルアノードX線銃：Al/Mg（450W）
エッチングイオン銃：Arイオン
紫外光源：He IおよびHe II
微小部分析、マッピング分析、イメージング分析可能
主な用途
（分析対象物）		 主に金属・半導体・高分子化合物・ハイテク材料などの研究分野を支える高精度な表面分析装置
設置場所 ※※※※※
留意事項 学外の方で利用を希望される場合は、以下をご参照ください。
https://www.miyazaki-u.ac.jp/crcweb/analysis_support/trusting_test/
研究成果
（論文・研究内容）


DOI
Optimized hydrogen evolution on ultrathin CrOx-modified Ir nanoparticles: mechanism and control of proton hopping and particle aggregation


DOI Scopus
Semitransparent Ternary NiFeCoOx Cocatalyst Layers with Optimized Loading Balancing Transparency and Oxygen Evolution Activity on FTO and Hematite Photoanodes


DOI Scopus
Electrochemical Identification of Surface States Limiting Overall Water Splitting in Particulate Oxynitride Photocatalysts


DOI



Estimating the quasi-Fermi level of holes at the surface of semiconductor photoanodes using outer-sphere redox couples


DOI
Adsorption Equilibrium of Selenium Oxyanions Using FeY Mixed Oxides


DOI
Adsorption Equilibrium of Selenium Oxyanions Using FeY Mixed Oxides


Scopus



DOI
Effect of Acid Treatment on a λ-MnO<inf>2</inf> Granulated Adsorbent for Adsorptive Recovery of Lithium


DOI Scopus
最終更新日：2026/10/04
設備利用お問い合わせ先情報
担当者氏名 ※※※※※
Tel ※※※※※
e-mail ※※※※※
URL https://www.miyazaki-u.ac.jp/crcweb/analysis_support/trusting_test/
設備利用料金情報
利用形態 単価
受託試験
　　※右の受託試験料金に、当該受託試験遂行に関連し必要となる経費【間接経費（受託試験料金の30％）】を合算した料金をお支払いいただきます。
 		47,200円／検体（4元素まで）、4,720円（追加料金：１元素ごと）
戻る
ご利用をご希望の方は、留意事項をご参照ください。